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等離子干蝕刻
等離子干蝕刻是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於于激發離子與材料的碰撞而發生的，無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。

更新時間：2025-10-20型號：訪問量：1174

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